学歴
- 国立台北科技大学大学院 知的財産権科卒
- 淡江大学実用日本語学科卒
- 建国技術学院応用外国語学科卒
専門分野
- 機械製造
- 機械力学
- 自動化技術
- セラミック回路基板
- セラミックコンデンサ
- 半導体デバイス
- 半導体製造プロセス
- 画像表示装置
- プロジェクター
- 自動車部品
- 家庭用品
著作
淺談無害公開--「新穎性優惠期」及台日中相關規定之比較 我國、日本、中國大陸設計專利制度差異探討—以我國最新修正施行之審查基準為中心 日本意匠審查基準修訂簡介暨申請動向 論進步性肯定因素「反向教示」之我國近年實務發展 臺日設計專利制度差異探討—以109年11月1日修正施行之審查基準為中心 日本意匠審查基準修訂簡介 台湾における新規性又は進歩性喪失の例外に係る規定の紹介、及び日本・中国の関連規定との比較 台湾 進歩性判断における簡単変更（設計変更）の認定に関する判決 日本と台湾との意匠制度の相違比較：2020年11月1日に施行された台湾改訂意匠審査基準を中心に 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、画像の意匠の保護拡充などの改訂を行い、2020年11月1日に施行することを発表
経歴
- 致恩科技株式会社品質管理
- 関東科学株式会社業務員
- 知的財産トレーニングアカデミー特許技術者コース終了
その他
講演
- 台湾弁理士会が主催した「台湾知的財産関連ウェビナー」の第４部「台湾２０２０年１１月施行の意匠審査基準の改訂内容の紹介及び日本との比較」、2022年8月30日。
- 淺談無害公開──「新穎性優惠期」及台日中相關規定之比較，2022年5月6日。
- 設計專利審查基準修正之簡介，2020年11月6日。
技術分野 (IPC/LOC)
