學歷
- 國立高雄科技大學電子工程系
專長
- 應用軟體設計
- 半導體製程與元件
- 液晶顯示器(LCD)技術
經歷
- 通過中國專利代理師資格考試
著作
中國大陸發明專利審查指南中關於計算機程序的修改介紹 美國設計專利的一般觀察者認定及顯而易見性判斷 EPC新施行細則第56a條與修正後施行細則第56條說明 美國專利案資訊檢索系統Patent Center簡介 一般觀察者測試法判斷設計專利的侵權與否 設計專利之特徵不易完全倚賴圖面表示 減重方法申請專利 EPO新專利檢索系統New Espacenet簡介 再發證程序禁止專利權人復奪已放棄之發明 專利用語解釋應完整考量說明書之記載 設計專利審查過程中之選取不必然構成禁反言 圖形化使用者介面 (GUI) 不必然解讀為手段功能用語 方法中記載具體技術,非屬於抽象概念 CAFC再次認同電腦技術之改善為適格標的 馬來西亞實審制度介紹/涉外專利民事訴訟案件之管轄/判斷美國兩申請中申請案之重複專利是否需簽署期末拋棄 請求項明確與否應根據其整體內容評斷,而非特定用語 從判決觀察應用監測與控制之發明是否僅為抽象概念 歐洲專利局與中國大陸專利局之多國專利審查資訊查詢介紹 藉助示意圖式表現技術特徵以期符合美專圖式要求規定 外文本取得設計專利申請日之認定 美國設計專利涉及內部特徵之圖式表現方式 我國與加拿大關於部分設計之圖式揭露方式說明 電腦圖像 (icon) 及圖形化使用者介面 (GUI) 設計專利說明 第三人對美國已公開的申請案提供相關資料予美國專利局 35 U.S.C. §112之補充審查方針(下篇) 35 U.S.C. §112之補充審查方針(上篇)
其他
技術領域 (IPC/LOC)