• Patent Attorney (Cert. No. A0740), admitted 2020

Education:

• LL.M. Graduate Institute of Intellectual Property, National Taipei University of Technology, Taiwan
• B.A. Practical Japanese, Tamkang University, Taiwan
• B.A. Applied Foreign Languages, Chienkuo Technology University, Taiwan

Specialization:

• Machine Building
• Mechanics of Machinery
• Mechanical Automation
• Ceramic Circuit Board
• Ceramic Condenser
• Semiconductor Devices
• Semiconductor Manufacturing Process
• Image Display Devices
• Projector
• Vehicle Parts
• Household Goods

Author:

• 淺談無害公開--「新穎性優惠期」及台日中相關規定之比較，台一專利商標雜誌電子報第246期，民國111年11月。
• 台湾における新規性又は進歩性喪失の例外に係る規定の紹介、及び日本・中国の関連規定との比較，民國111年6月23日。
• 日本意匠審查基準修訂簡介暨申請動向，台一四十五週年慶紀念專輯，民國110年12月16日。
• 我國、日本、中國大陸設計專利制度差異探討—以我國最新修正施行之審查基準為中心，台一四十五週年慶紀念專輯，民國110年12月16日。
• 論進步性肯定因素「反向教示」之我國近年實務發展，台一四十五週年慶紀念專輯，民國110年12月16日。
• 台湾 進歩性判断における簡単変更（設計変更）の認定に関する判決，民國110年11月16日。
• 日本と台湾との意匠制度の相違比較：2020年11月1日に施行された台湾改訂意匠審査基準を中心に
• 臺日設計專利制度差異探討—以109年11月1日修正施行之審查基準為中心，台一專利商標雜誌電子報第236期，民國110年3月。
• 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、画像の意匠の保護拡充などの改訂を行い、2020年11月1日に施行することを発表，民國109年10月26日。
• 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、保護対象の拡充などの改訂が行われる予定を2020年8月31日に発表，民國109年9月3日。
• 日本意匠審查基準修訂簡介，台一專利商標雜誌第233期，民國109年9月。
• 聚焦反向教示之研究－以臺灣、日本、美國之審查基準及判決為中心
• タイトル：台湾特許侵害鑑定要点とはどのような性質を持つかについて。

Speech:  

• 台灣專利師公會主辦「台湾知的財産関連ウェビナー」之第4部分「台湾２０２０年１１月施行の意匠審査基準の改訂内容の紹介及び日本との比較」，民國111年8月30日。
• 淺談無害公開──「新穎性優惠期」及台日中相關規定之比較，民國111年5月6日。
• 設計專利審查基準修正之簡介，民國109年11月6日。

Experience:

• Quality Control, GVision Incorporated
• Sales, Kanto Taiwan Corporation
• Patent Engineering Training Program, Taiwan Intellectual Property Training Academy

Technical Fields (IPC/LOC):