• 專利師　專證字第A0740號 (2020年)

學歷

• 國立臺北科技大學智慧財產權研究所碩士
• 淡江大學日文系
• 建國技術學院應用外語科

專長

• 機械製造
• 機械力學
• 機械自動化
• 陶瓷電路基板
• 陶瓷電容器
• 半導體元件
• 半導體製程
• 影像顯示元件
• 投影機
• 汽車零件
• 生活用品

著作

• 臺日設計專利制度差異探討—以109年11月1日修正施行之審查基準為中心，台一專利商標雜誌電子報第236期，民國110年3月。
• 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、画像の意匠の保護拡充などの改訂を行い、2020年11月1日に施行することを発表，民國109年10月26日。
• 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、保護対象の拡充などの改訂が行われる予定を2020年8月31日に発表，民國109年9月3日。
• 日本意匠審查基準修訂簡介，台一專利商標雜誌第233期，民國109年9月。
• 聚焦反向教示之研究－以臺灣、日本、美國之審查基準及判決為中心
• タイトル：台湾特許侵害鑑定要点とはどのような性質を持つかについて。

經歷 

• 致恩科技股份有限公司品保人員
• 關東化學股份有限公司業務員
• 智慧財產培訓學院專利工程師班

技術領域 (IPC/LOC)