• 弁理士

学歴

• 国立台北科技大学大学院　知的財産権科卒
• 淡江大学実用日本語学科卒
• 建国技術学院応用外国語学科卒

専門分野

• 機械製造
• 機械力学
• 自動化技術
• セラミック回路基板
• セラミックコンデンサ
• 半導体デバイス
• 半導体製造プロセス
• 画像表示装置
• プロジェクター
• 自動車部品
• 家庭用品

著作

• 淺談無害公開--「新穎性優惠期」及台日中相關規定之比較，台一專利商標雜誌電子報第246期，民國111年11月。
• 台湾における新規性又は進歩性喪失の例外に係る規定の紹介、及び日本・中国の関連規定との比較，民國111年6月23日。
• 日本意匠審查基準修訂簡介暨申請動向，台一四十五週年慶紀念專輯，民國110年12月16日。
• 我國、日本、中國大陸設計專利制度差異探討—以我國最新修正施行之審查基準為中心，台一四十五週年慶紀念專輯，民國110年12月16日。
• 論進步性肯定因素「反向教示」之我國近年實務發展，台一四十五週年慶紀念專輯，民國110年12月16日。
• 台湾 進歩性判断における簡単変更（設計変更）の認定に関する判決，民國110年11月16日。
• 日本と台湾との意匠制度の相違比較：2020年11月1日に施行された台湾改訂意匠審査基準を中心に
• 臺日設計專利制度差異探討—以109年11月1日修正施行之審查基準為中心，台一專利商標雜誌電子報第236期，民國110年3月。
• 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、画像の意匠の保護拡充などの改訂を行い、2020年11月1日に施行することを発表，民國109年10月26日。
• 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、保護対象の拡充などの改訂が行われる予定を2020年8月31日に発表，民國109年9月3日。
• 日本意匠審查基準修訂簡介，台一專利商標雜誌第233期，民國109年9月。
• 聚焦反向教示之研究－以臺灣、日本、美國之審查基準及判決為中心
• タイトル：台湾特許侵害鑑定要点とはどのような性質を持つかについて。

講演 

• 台湾弁理士会が主催した「台湾知的財産関連ウェビナー」の第４部「台湾２０２０年１１月施行の意匠審査基準の改訂内容の紹介及び日本との比較」、2022年8月30日。
• 淺談無害公開──「新穎性優惠期」及台日中相關規定之比較，民國111年5月6日。
• 設計專利審查基準修正之簡介，民國109年11月6日。

経歴

• 致恩科技株式会社品質管理
• 関東科学株式会社業務員
• 知的財産トレーニングアカデミー特許技術者コース終了

技術分野 (IPC/LOC)